ST华微获得实用新型专利授权：“一种电极组件及等离子体刻蚀机”

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2025年5月21日

网上信息消息，根据天眼查数据显示ST华微（600360）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种电极组件及等离子体刻蚀机”，专利申请号为CN202420844812.3，授权日为2025年4月25日。

专利摘要：本申请公开了一种电极组件及等离子体刻蚀机，涉及等离子体电极技术领域，用于解决现有技术中电极本体的边缘区域的出气量小于中部区域的出气量，从而对芯片刻蚀不均匀的技术问题。该电极组件包括电极本体，所述电极本体包括中部区域和边缘区域；沿垂直于所述电极本体的厚度方向，所述电极本体上开有贯穿所述电极本体的多圈通气孔，所述多圈通气孔沿所述电极本体的径向排布，所述边缘区域的通气孔的直径大于所述中部区域的通气孔的直径。本申请通过将电极本体的边缘区域的通气孔的直径设置为大于中部区域的通气孔的直径，可以提高通过电极本体的气体的均匀性，进而可以提高被刻蚀的芯片的均匀性。

今年以来ST华微新获得专利授权14个，较去年同期增加了27.27%。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了6046.38万元，同比增13.15%。

数据来源：天眼查

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