ST华微获得发明专利授权：“一种在石英舟上淀积涂层解决多晶背面高点问题的方法”

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2025年1月14日

网上信息消息，根据天眼查数据显示ST华微（600360）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种在石英舟上淀积涂层解决多晶背面高点问题的方法”，专利申请号为CN202210752293.3，授权日为2025年1月14日。

专利摘要：本发明是一种在石英舟上淀积涂层解决多晶背面高点问题的方法，使用立式LPCVD炉低压化学气相淀积的方式，在淀积温度为600?800℃、氨气(NH3)流量使用范围为100?500SCCM、二氯二氢硅(DCS)使用范围为20?100SCCM、淀积压力使用范围为0.1?1Torr及淀积速率范围为10?30埃/min条件下进行氮化硅淀积，石英舟在淀积氮化硅时同时在舟上装入监控片，持续时间大于等于100min对监控片进行氮化硅积淀工艺，对监控片积淀一定的厚度大于等于2000埃，本发明方法可解决硅片背面多晶高点问题，通过此方法替代碳化硅舟，突破国外碳化硅舟在国内禁购问题。

今年以来ST华微新获得专利授权1个。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了6046.38万元，同比增13.15%。

数据来源：天眼查

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